采用波前分割法的接近式光刻掩模版局部优化

• 作者: 刘韧 李木军 沈连婠 潘攀 郑津津
• 来源期刊: 现代制造工程
• 学科: 工学
• 关键词: 接近式光刻 波前分割 局部优化 模拟退火算法
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 18-22
• 页数: 5页
• 分类号: TH16
• 字数: 2080字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-3133.2010.01.006

摘要

针对接近式紫外光刻图形转移中的曝光形状失真问题,采用波前分割的方法对掩模图形上的波前进行区域划分,并利用光场相干叠加相互抵消的性质,最终得到掩模图形上对场点光场影响最大的波前区域,并得到实验验证.应用模拟退火算法对掩模特征处进行局部优化,在保证优化效果的基础上,使优化过程大大简化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑津津	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	56	224	8.0	11.0
2	沈连婠	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	63	319	7.0	12.0
3	李木军	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	32	137	6.0	9.0
4	刘韧	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	4	36	2.0	4.0
5	潘攀	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	1	0	0.0	0.0