磁控共溅射Al-Pb合金薄膜中固溶度的扩展

• 作者: 周铖 孙勇 彭明军 李玉阁 郭中正
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: Al-Pb合金薄膜 亚稳固溶体 扩展固溶度 磁控共溅射
• 年，卷（期）: 2010,（10）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 10-13
• 分类号: TB43|TN305.92
• 字数: 3243字
• 语种: 中文

摘要

利用磁控共溅射法在液氮冷却的衬底(LNCs)上制备了Al-Pb合金薄膜,运用EDX、XRD、TEM和SEM对薄膜成分、结构及形貌进行了研究.结果表明,Al-Pb薄膜在Pb含量为7.38%～2.73%(原子分数,下同)的宽范围内,均存在Al在Pb中的fcc Pb(Al)亚稳过饱和置换固溶体,固溶度与膜成分相关,随薄膜Pb含量的变化,固溶度在3.03%～5.31%A1之间变化,Al-48.9%Pb膜扩展固溶度最大(5.31%A1),薄膜Pb含量降低或升高时,fccPb(Al)固溶体的固溶度下降.此结果与Miedema理论计算的Al-Pb系混合焓随Pb含量的变化趋势相似.低温衬底下Pb的体扩散弱化并导致相分离倾向降低是固溶延展的动力学原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙勇	昆明理工大学云南省新材料制备与加工重点实验室	105	750	13.0	21.0
2	彭明军	昆明理工大学云南省新材料制备与加工重点实验室	32	155	8.0	10.0
3	李玉阁	昆明理工大学云南省新材料制备与加工重点实验室	10	39	3.0	5.0
4	郭中正	昆明理工大学云南省新材料制备与加工重点实验室	29	152	8.0	11.0
5	周铖	昆明理工大学云南省新材料制备与加工重点实验室	6	24	3.0	4.0