射频磁控溅射法制备氧化铝涂层绝缘性能及吸氢特性

• 作者: 吴平 宋斌斌 巨新 张师平 李新连 赵以德 闫丹 陈森
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 氧化铝涂层 绝缘性能 吸氢
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 页码范围: 1311-1317
• 分类号: TL627|TB742
• 语种: 中文

摘要

氧化铝具有优良的绝缘和阻氚性能,是ITER候选功能材料之一.本工作采用射频磁控溅射法在中国低活化马氏体(CLAM)钢基底上制备了氧化铝涂层.分别采用掠入射X射线衍射、Raman激光光谱和原子力显微镜对氧化铝涂层的结构和表面形貌进行了表征;测量了氧化铝涂层体电阻率;研究了氧化铝涂层样品的吸氢特性.结果表明:氧氩比为0.1和0.5下制备的氧化铝涂层为非晶结构,氧氩比为0.4下制备的涂层中出现了结晶程度较差的氧化铝δ相结构;氧氩比为0.1和0.4下制备的涂层粗糙度和粒径均小于氧氩比为0.5下制备的涂层;不同氧氩比下制备的氧化铝涂层体电阻率均超过2.7×1014 Ω·cm,氧氩比为0.4下制备的涂层电阻率最高,达到2.1×1015 Ω·cm;氧氩比为0.5下制备的涂层样品具有最低的吸氢量.氧氩比对涂层的电绝缘特性和吸氢特性有显著影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴平	北京科技大学应用学院	93	481	11.0	17.0
2	巨新	北京科技大学应用学院	14	74	5.0	8.0
3	陈森	北京科技大学应用学院	37	166	7.0	10.0
4	宋斌斌	北京科技大学应用学院	3	9	2.0	3.0
5	张师平	北京科技大学应用学院	30	128	6.0	10.0
6	赵以德		3	17	3.0	3.0
7	闫丹		1	6	1.0	1.0
8	李新连	北京科技大学应用学院	2	9	2.0	2.0