CHF_3双频电容耦合放电等离子体特性研究

• 作者: 叶超 徐轶君 胡佳
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 双频电容耦合放电 CHF_3等离子体
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 所属期刊栏目: 流体、等离子体和放电
• 页码范围: 2661-2665
• 分类号: O4
• 语种: 中文

摘要

研究了用于SiCOH低介电常数薄膜刻蚀的CHF_3气体在13.56 MHz/2 MHz,27.12 MHz/2 MHz和60 MHz/2MHz双频电容耦合放电时的等离子体性质.发现2 MHz低频源功率的增大主要导致F基团密度的增大;而高频频率从13.56,27.12增大到60 MHz,导致CF_2基团的密度增大和电极之间F基团密度的轴向空间不均匀性增加.根据电子温度的分布规律及离子能量随高频源频率的变化关系,提出CF_2基团的产生主要通过电子-中性气体碰撞,而F基团的产生是离子-中性气体碰撞的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡佳	苏州大学物理科学与技术学院江苏省薄膜材料重点实验室	5	0	0.0	0.0
2	叶超	苏州大学物理科学与技术学院江苏省薄膜材料重点实验室	33	244	10.0	14.0
3	徐轶君	苏州大学物理科学与技术学院江苏省薄膜材料重点实验室	1	0	0.0	0.0