硬X射线相位光栅的设计与研制

• 作者: 刘鑫 牛憨笨 赵志刚 郭金川 雷耀虎
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: X射线 相衬成像 相位光栅 硅刻蚀 光助电化学刻蚀
• 年，卷（期）: 2010,（10）
• 页码范围: 6927-6932
• 分类号: O4
• 语种: 中文

摘要

针对在普通实验室和医院实现40-100 keV X射线相衬成像的需求,考虑到成像系统参数、X射线源空间相干特性及光栅衍射效率,设计出硅基相位光栅结构参数.利用我们已发展的光助电化学刻蚀技术研制出直径为5英寸的相位光栅,其空间周期为5.6 μm,线宽为2.8 μm,深度为40-70 μm.在理论分析的基础上,通过提高硅片两端有效工作电压和修正Lehmann电流密度公式,解决了实际刻蚀过程中出现的钻蚀问题.由实验结果可知,本方案对制作大面积高精度相位光栅十分有效.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	牛憨笨	深圳大学光电工程学院光电子器件与系统教育部重点实验室	71	772	13.0	25.0
2	郭金川	深圳大学光电工程学院光电子器件与系统教育部重点实验室	29	103	6.0	8.0
3	雷耀虎	深圳大学光电工程学院光电子器件与系统教育部重点实验室	7	23	3.0	4.0
4	刘鑫	深圳大学光电工程学院光电子器件与系统教育部重点实验室	9	33	4.0	5.0
5	赵志刚	深圳大学光电工程学院光电子器件与系统教育部重点实验室	6	11	2.0	3.0