Cl原子在γ-TiAl(111)表面吸附的第一性原理研究

• 作者: 吴小霞 周云松 王乾恩 王福合
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: γ-TiAl(111)表面 覆盖度 吸附能
• 年，卷（期）: 2010,（10）
• 页码范围: 7278-7284
• 分类号: O4
• 语种: 中文

摘要

基于密度泛函理论,在广义梯度近似下研究了Cl在γ-TiAl(111)表面的吸附.计算结果表明:γ-TiAl(111)表面的面心立方位置(fcc)和六角密排位置(hcp)为Cl吸附的稳定位置,当覆盖度θ小于一个单层(ML)时,Cl原子倾向于吸附在γ-TiAl(111)表面近邻为多Ti的位置.电子结构分析发现,C1原子同表面金属原子形成较强的离子键,并且成键具有一定的方向性.当Cl原子和O原子共同在γ-TiAl(111)表面吸附时,二者都趋于优先占据表面fcc和hcp位置,从而形成吸附竞争;另外,Cl原子的吸附将升高平均每个O原子的吸附能,从而减弱O原子与表面金属原子的结合,这可能是实验中氯化处理能使γ-TiAl抗氧化能力提高的原因之一.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王福合	首都师范大学物理系	33	118	6.0	9.0
2	周云松	首都师范大学物理系	27	156	9.0	11.0
3	吴小霞	首都师范大学物理系	1	3	1.0	1.0
4	王乾恩	首都师范大学物理系	1	3	1.0	1.0