Si衬底上RF磁控溅射MgO薄膜的研究

• 作者: 丁桂甫 侯捷 张丛春 杨春生
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 MgO XRD SEM
• 年，卷（期）: 2010,（7）
• 页码范围: 1205-1207
• 分类号: O78|TQ11
• 字数: 2051字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射(rf magnetron sputtering)在Si(100)衬底上生长得到MgO薄膜.将在不同气压和Ar分压条件下得到的样品在氧气氛围下1000℃退火并进行X射线衍射(XRD)分析,结果表明,溅射总气压和O2分压影响MgO薄膜的择优取向,控制总气压和Ar分压可以控制MgO薄膜的晶格取向,Si衬底取向也对薄膜的择优取向产生影响.通过扫描电子显微镜(SEM)分析发现,MgO薄膜经过高温退火形成结晶并产生了表面裂纹.