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摘要:
We demonstrate 10 Gb/s directly-modulated 1.3 μm InAs quantum-dot (QD) lasers grown on GaAs substrates by molecular beam epitaxy. The active region of the QD lasers consists of five-stacked InAs QD layers. Ridge-waveguide lasers with a ridge width of 4 μm and a cavity length of 600 μm are fabricated with standard lithography and wet etching techniques. It is found that the lasers emit at 1293 nm with a very low threshold current of 5 mA at room temperature. Furthermore, clear eye-opening patterns under 10 Gb/s modulation rate at temperatures of up to 50oC are achieved by the QD lasers. The results presented here have important implications for realizing low-cost, low-power-consumption, and high-speed light sources for next-generation communication systems.
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文献信息
篇名 A 10Gb/s Directly-Modulated 1.3μm InAs/GaAs Quantum-Dot Laser
来源期刊 中国物理快报(英文版) 学科 工学
关键词 量子点激光器 直接调制 砷化铟 GaAs 分子束外延生长 砷化镓衬底 波导激光器 蚀刻技术
年,卷(期) 2010,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 181-183
页数 3页 分类号 TN248.4 TN304.23
字数 语种 英文
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研究主题发展历程
节点文献
量子点激光器
直接调制
砷化铟
GaAs
分子束外延生长
砷化镓衬底
波导激光器
蚀刻技术
研究起点
研究来源
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期刊影响力
中国物理快报(英文版)
月刊
0256-307X
11-1959/O4
16开
北京中关村中国科学院物理研究所内
1984
eng
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14318
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