离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi2薄膜的研究

• 作者: 刘恋慈 唐正霞 张娟 李斌斌 江丰 沈洲 沈鸿烈 鲁林峰
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: β-FeSi2 离子束溅射沉积 Fe/Si多层膜 石英衬底
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 886-888,891
• 分类号: TB34|TB303
• 字数: 3225字
• 语种: 中文

摘要

采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响.结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表面致密均匀,其光学带隙为0.84eV,能量为1.0eV光子的吸收系数＞105cm-1.