PI掺杂多孔SiO2薄膜的制备及性能研究进展

• 作者: 张学艳 柳清菊 王伟伟
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 多孔SiO2 聚酰亚胺 薄膜 制备 性能
• 年，卷（期）: 2010,（19）
• 页码范围: 123-125,131
• 分类号: TB3
• 字数: 4900字
• 语种: 中文

摘要

近年来对掺杂纳米SiO2的聚酰亚胺薄膜的各种性能进行了充分的研究,而对以少量PI掺杂的多孔SiO2薄膜的研究较少.介绍了PI掺杂多孔SiO2薄膜制备过程中影响薄膜性能及应用的两个关键因素(相分离和热处理固化成膜),理论分析了PI掺杂多孔SiO2薄膜的力学性能和绝热性能,最后讨论了目前存在的一些问题和今后的发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	柳清菊	云南大学云南省高校纳米材料与技术重点实验室	145	1693	22.0	33.0
2	张学艳	云南大学云南省高校纳米材料与技术重点实验室	1	4	1.0	1.0
3	王伟伟	云南大学云南省高校纳米材料与技术重点实验室	2	10	2.0	2.0