纳米SiO2的均匀分散及其对MC尼龙6晶型结构及晶型转变的影响

• 作者: 林志勇 蔡力锋
• 来源期刊: 化工新型材料
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米二氧化硅 MC尼龙6 晶型结构 晶型转变
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 页码范围: 96-98,110
• 分类号: TQ34
• 字数: 2375字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3536.2010.11.030

摘要

通过阴离子开环聚合法制备纳米二氧化硅(SiO2)/MC尼龙6原位复合材料,采用透射电子显微镜(TEM)对纳米粒子在基体中的分散行为进行表征,结果表明SiO2约以30~70nm左右的尺寸均匀分散在基体中.广角X射线衍射(WAXD)结果表明,纯MC尼龙6及其原位复合材料均呈现典型尼龙6的α晶型衍射峰,纳米SiO2的引入在MC尼龙6结晶过程中削弱了大分子链在c轴的取向.液氮淬冷样品经退火处理后的WAXD结果表明,纳米SiO2和MC尼龙6之间的相互作用阻碍了大分子链段的运动,从而使得γ晶型向α晶型的转变速率降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林志勇	华侨大学材料科学与工程学院	95	739	16.0	21.0
2	蔡力锋	莆田学院环境与生命科学学院	22	59	5.0	6.0