篇名 | Study on the drain bias effect on negative bias temperature instability degradation of an ultra-short p-channel metal-oxide-semiconductor field-effect transistor | ||
来源期刊 | 中国物理B(英文版) | 学科 | |
关键词 | negative bias temperature instability drain bias electric field localized damage | ||
年,卷(期) | 2010,(4) | 所属期刊栏目 | |
研究方向 | 页码范围 | 400-405 | |
页数 | 6页 | 分类号 | |
字数 | 语种 | 英文 | |
DOI |