衬底和氧分压对Cu掺杂ZnO薄膜的结构及光学特性的影响

• 作者: 侯丽莉 孟军霞 尚小荣 贾迎飞 陈海霞 陶亚明 马书懿
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO:Cu薄膜 磁控溅射 衬底 氧分压 光学特性
• 年，卷（期）: 2010,（10）
• 页码范围: 1716-1719
• 分类号: O484.4|O484.5
• 字数: 3839字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射方法在玻璃和硅(100)衬底上制备了不同氧分压的Cu掺杂ZnO(ZnO:Cu)薄膜.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和光致荧光发光(PL)等表征技术,研究了衬底和氧分压对ZnO:Cu薄膜的结晶性能和光学特性的影响.结果显示薄膜沉积在Si衬底上比玻璃衬底上有更好c轴择优取向,两种衬底上沉积的薄膜有相同的氧分压结晶规律,且在氧氩比为10:10时,薄膜c轴取向同时达到最好.通过对光致发光的研究表明,在低氧环境时玻璃衬底较容易制得好的发光薄膜,可在富氧环境时Si衬底上制得的薄膜发光性能较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马书懿	西北师范大学物理与电子工程学院	69	226	8.0	11.0
2	陈海霞	西北师范大学物理与电子工程学院	11	38	3.0	5.0
3	陶亚明	西北师范大学物理与电子工程学院	5	29	3.0	5.0
4	孟军霞	西北师范大学物理与电子工程学院	4	25	3.0	4.0
5	侯丽莉	西北师范大学物理与电子工程学院	4	25	3.0	4.0
6	贾迎飞	西北师范大学物理与电子工程学院	4	25	3.0	4.0
7	尚小荣	西北师范大学物理与电子工程学院	5	26	3.0	5.0