硅基VO2纳米薄膜光致绝缘体-金属相变的THz时域频谱研究

• 作者: 刘丰 柴路 王昌雷 王清月 田震 胡明列 谷建强 邢岐荣
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 二氧化钒 光致相变 Drude模型 THz时域频谱技术
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 页码范围: 7857-7862
• 分类号: O6
• 语种: 中文

摘要

利用THz时域频谱技术(THz-TDS)研究了硅基二氧化钒(VO2)纳米薄膜的光致绝缘体一金属相变特性.在连续光激发下前后,观察到了非常明显的THz透过率变化,并通过薄膜近似计算出了THz波段金属态VO2薄膜的电导率.根据实验结果建立了金属态VO2薄膜的等效Drude模型,得到了复电导率,复电容率以及复折射率等相关的基本参数,并通过基于时域有限积分法模拟了THz波穿透硅基金属态VO2薄膜的过程,验证了所建立的模型的正确性,为研究VO2薄膜的相变特性以及VO2薄膜在THz波段的应用提供了参考.