新型含三氰基呋喃受体的非线性光学材料合成及性能研究

• 作者: 唐先忠 唐翔 王洋 赵波
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 非线性光学材料 三氰基呋喃 热性能 DFT
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 1340-1342,1346
• 分类号: O621|TN20
• 字数: 3348字
• 语种: 中文

摘要

合成了2种含三氰基呋喃受体的新型非线性光学(NLO)生色团分子.利用元素分析、1H-NMR和FT-IR对这些分子的结构进行了表征.TGA测试结果表明这两种材料具有较好的热稳定性,其热分解温度(Td)最高达311℃.UV-Vis光谱表明材料具有较好的透光性.用DFT-B3LYP方法在6-31G基组下对分子的结构进行了优化并计算出其静态二阶极化率β值最高达5.9×10-28esu.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐先忠	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	53	415	9.0	18.0
2	唐翔	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	18	35	4.0	5.0
3	赵波	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	10	91	5.0	9.0
4	王洋	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	9	19	3.0	4.0