紫外光刻法制备图案化聚合物纳米管/线阵列的研究

• 作者: 佘希林 孙瑾 宋国君 彭智 李培栋 李建江 李晓茹
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外光刻技术 纳米管 纳米线 AAO模板 图案化
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 1350-1352
• 分类号: TB383
• 字数: 1978字
• 语种: 中文

摘要

探讨了紫外光刻技术制备图案化聚合物纳米管/线阵列的方法,研究制备过程中的各种影响因素,并找到了最佳的实验条件.采用溶液浸润法,成功制备了不同图案的聚合物纳米结构阵列.溶液浓度为6%(质量分数),得到的是聚合物纳米管阵列;溶液浓度为10.0%(质量分数),得到的是聚合物纳米线阵列.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙瑾	青岛大学化学化工与环境学院	41	356	9.0	17.0
2	宋国君	青岛大学化学化工与环境学院	171	1471	19.0	28.0
3	李培栋	青岛大学化学化工与环境学院	3	9	2.0	3.0
4	李晓茹	青岛大学化学化工与环境学院	17	34	4.0	5.0
5	彭智	青岛大学化学化工与环境学院	28	109	6.0	8.0
6	佘希林	青岛大学化学化工与环境学院	47	322	10.0	15.0
7	李建江	青岛大学化学化工与环境学院	22	184	7.0	12.0