Sol-gel法制备Bi0.85Nd0.15FeO3多铁性薄膜

• 作者: Goto Takashi Tu Rong 张联盟 李超 沈强 王传彬 郭冬云
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: sol-gel法 Bi0.85Nd0.15FeO3 薄膜 铁电性能 铁磁性能
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 5772-5776
• 分类号: O4
• 语种: 中文

摘要

利用sol-gel法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备出Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜.研究退火温度对其晶相形成的影响,发现在450℃退火时,Bi0.85Nd0.15FeO3晶相开始形成,但是结晶较差,而且存在杂相;在500-600℃退火可以获得单相Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜,退火温度升高有利于其结晶.对600℃退火的Bi0.85Nd0.15FeO3薄膜的介电、铁电和电磁性能进行了测试.在测试频率为1 MHz时,其介电常数和介电损耗分别为145,0.032;饱和磁化强度大约为44.8 emu/cm3;剩余极化值(2P,)大约是16.6μC/cm2.