射频磁控溅射法制备ZnS多晶薄膜及其性质

• 作者: 冯良桓 张静全 曾广根 李卫 李愿杰 武莉莉 蔡亚平 谢婧 郑家贵 雷智 颜璞 黎兵
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnS薄膜 射频磁控溅射 内应力
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 5749-5754
• 分类号: O4
• 语种: 中文

摘要

实验采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积了ZnS多晶薄膜,研究了沉积气压、退火温度和衬底温度对ZnS薄膜质量的影响.利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的微结构,并计算了内应力值.通过紫外-可见光分光光度计测量了薄膜的透过谱,计算了Urbach能量和禁带宽度.利用扫描电子显微镜(SEM)观察了薄膜的表面形貌.结果表明:衬底温度为室温时沉积的ZnS薄膜具有较大的压应力,并且内应力值随着工作气压增大而增大,在300℃下进行退火处理后内应力松弛,衬底温度为350℃时制备的ZnS薄膜内应力小,透过率高,经300℃退火处理后结晶质量有所提高.