脉冲激光晶化超薄非晶硅膜的分子动力学研究

• 作者: 宋超 徐岭 徐骏 李伟 王旦清 陈坤基 陈谷然 马忠元 黄信凡
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 非晶硅 分子动力学 脉冲激光晶化
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 5681-5686
• 分类号: O4
• 语种: 中文

摘要

利用准分子脉冲激光晶化非晶硅薄膜是制备高密度尺寸可控的硅基纳米结构的有效方法之一.本文将脉冲激光对非晶硅超薄膜的影响处理为热传导问题,采用了基于Tersoff势函数的分子动力学方法模拟了在非晶氮化硅衬底上2.7 nm超薄非晶硅膜的脉冲激光晶化过程.研究了不同激光能量对非晶硅薄膜晶化形成纳米硅的影响,发现在合适的激光能量窗口下,可以获得高密度尺寸可控的纳米硅薄膜,进而模拟了在此能量作用下非晶硅膜中成核与生长的机理与微观过程,并对晶化所获得的纳米硅薄膜的微结构进行了分析.