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摘要:
利用应变Si CMOS技术提高载流子迁移率是当前研究发展的重点,本征载流子浓度是应变Si材料的重要物理参数,也是决定应变Si器件电学特性的重要参量.本文基于K.P理论框架,从分析应变Si/(001)Si_(1-x)Ge_x材料能带结构出发,详细推导建立了300K时与Ge组分(x)相关的本征载流子浓度模型.该数据量化模型可为Si基应变器件物理的理解及器件的研究设计提供有价值的参考.
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文献信息
篇名 应变Si/(001)Si_(1-x)Ge_x本征载流子浓度模型
来源期刊 物理学报 学科 化学
关键词 应变Si 有效态密度 本征载流子浓度
年,卷(期) 2010,(3) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 2064-2067
页数 4页 分类号 O6
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 戴显英 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室 55 329 10.0 15.0
2 胡辉勇 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室 64 367 10.0 15.0
3 张鹤鸣 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室 102 510 12.0 16.0
4 宋建军 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室 36 204 9.0 12.0
5 宣荣喜 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件重点实验室 22 172 8.0 12.0
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