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摘要:
可制造性设计技术使设计者尽早得到设计版图能否被制造的信息,以减少交流等待的时间.为此,提出一种可制造性模型,用一个或者多个卷积核描述设计版图和轮廓之间的关系,用最速下降法求得,求解过程仅需要输入版图和轮廓对.实验结果表明,该模型能够对设计版图的结果进行较好的预测,与通过光刻模型仿真结果之间的误差在1.8%以内.
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文献信息
篇名 基于最速下降法的可制造性模型
来源期刊 计算机工程 学科 工学
关键词 可制造性设计 可制造性模型 仿光刻模型
年,卷(期) 2010,(20) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 225-228
页数 分类号 TP311
字数 4526字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-3428.2010.20.079
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 史峥 浙江大学超大规模集成电路设计研究所 51 176 7.0 11.0
2 杨巍 浙江大学超大规模集成电路设计研究所 14 38 4.0 6.0
3 胡志卷 浙江大学超大规模集成电路设计研究所 1 6 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
可制造性设计
可制造性模型
仿光刻模型
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
计算机工程
月刊
1000-3428
31-1289/TP
大16开
上海市桂林路418号
4-310
1975
chi
出版文献量(篇)
31987
总下载数(次)
53
总被引数(次)
317027
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