光刻机中光强和位置信号频谱分析的仿真

• 作者: 周美娇 朱正平 石君
• 来源期刊: 科技与创新
• 关键词: 光刻机 频谱分析 噪声 仿真
• 年，卷（期）: 2010,（7）
• 页码范围: 178-179
• 分类号: TP206
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-6835.2010.07.073

摘要

本文对某型光刻机同轴对准中失败的原因进行了分析,可能由于光强信号和位置信号中过大的噪声引起,并时此种情况进行了MATLAB仿真.通过对光强信号和位置信号进行频谱分析,能够对诊断进行指导.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周美娇	上海理工大学光电学院	29	168	6.0	12.0
2	朱正平	上海理工大学光电学院	3	11	1.0	3.0
3	石君	上海理工大学光电学院	2	11	1.0	2.0