非晶硅薄膜的金属诱导晶化研究现状

• 作者: 田跃生
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 非晶 硅薄膜 诱导晶化
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 综述·专论
• 页码范围: 97-100
• 分类号: O484.1
• 字数: 3337字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2011.05.027

摘要

概述了非晶硅薄膜的金属诱导晶化原理,介绍了Al,Ni两种金属诱导非晶硅薄膜晶化的一般规律,详细探讨了金属诱导条件下非晶硅薄膜的本质晶化机理,旨在为非晶硅薄膜的低温成核、晶化机理研究和多晶硅薄膜的研发制备提供实验支持与理论参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田跃生		4	11	2.0	3.0