Si(100)衬底上激光分子束外延制备高质量TiN薄膜

• 作者: 李雪飞 杨为家 王云云 符跃春 谢尚昇
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: TiN薄膜 N2分压 激光脉冲能量 晶体结构 生长模式
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 55-57
• 分类号: O484
• 字数: 2266字
• 语种: 中文

摘要

采用激光分子束外延(LMBE)技术在Si(100)上制备了高质量的TiN薄膜.对N2分压和激光脉冲能量对TiN薄膜晶体结构、生长模式和表面形貌影响的研究表明,TiN单晶薄膜呈(200)择优取向,在N2分压为10-1 Pa时,薄膜的结晶度高且表面平整致密.随着N2分压的增加,TiN(200)衍射峰向低角度移动.激光脉冲能量显著影响TiN薄膜的生长模式,在能量为200 mJ/p时,薄膜呈二维层状生长模式且具有纳米.级平滑表面,为制备高取向度AlN薄膜提供了很好的条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王云云	广西大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室	3	12	1.0	3.0
2	杨为家	广西大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室	1	0	0.0	0.0
3	谢尚昇	广西大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室	1	0	0.0	0.0
4	李雪飞	广西大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室	1	0	0.0	0.0