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Si(100)衬底上激光分子束外延制备高质量TiN薄膜
Si(100)衬底上激光分子束外延制备高质量TiN薄膜
作者:
李雪飞
杨为家
王云云
符跃春
谢尚昇
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
TiN薄膜
N2分压
激光脉冲能量
晶体结构
生长模式
摘要:
采用激光分子束外延(LMBE)技术在Si(100)上制备了高质量的TiN薄膜.对N2分压和激光脉冲能量对TiN薄膜晶体结构、生长模式和表面形貌影响的研究表明,TiN单晶薄膜呈(200)择优取向,在N2分压为10-1 Pa时,薄膜的结晶度高且表面平整致密.随着N2分压的增加,TiN(200)衍射峰向低角度移动.激光脉冲能量显著影响TiN薄膜的生长模式,在能量为200 mJ/p时,薄膜呈二维层状生长模式且具有纳米.级平滑表面,为制备高取向度AlN薄膜提供了很好的条件.
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文献信息
篇名
Si(100)衬底上激光分子束外延制备高质量TiN薄膜
来源期刊
真空
学科
物理学
关键词
TiN薄膜
N2分压
激光脉冲能量
晶体结构
生长模式
年,卷(期)
2011,(3)
所属期刊栏目
薄膜
研究方向
页码范围
55-57
页数
分类号
O484
字数
2266字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王云云
广西大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室
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杨为家
广西大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室
1
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谢尚昇
广西大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室
1
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李雪飞
广西大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室
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研究主题发展历程
节点文献
TiN薄膜
N2分压
激光脉冲能量
晶体结构
生长模式
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
开本:
大16开
出版地:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号:
8-30
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
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