Li0.33La0.56TiO3薄膜电解质的结构和光电性能

• 作者: 楼贤春 熊玉立 赵修建 陈红萍
• 来源期刊: 武汉理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Li0.33La0.56TiO3薄膜 基片温度
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 11-13,17
• 页数: 4页
• 分类号: TB321|O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3963/j.issn.1671-4431.2011.01.002

摘要

采用射频磁控溅射法,自制Li0.33La0.56TuO3陶瓷靶材,在不同基片温度下沉积了Li0.33La0.56TiO3薄膜.利用X射线衍射仪、原子力学显微镜、电化学工作站、紫外-可见分光光度计等现代测试手段,研究了基片温度对薄膜的结构、形貌、光学和电学性能的影响.结果表明:所制备的Li0.33La0.56TiO3薄膜为非晶态结构,在可见光波段具有较高的透过率;随着基片温度从50℃升高到300℃,薄膜表面更为平整致密,离子电导率逐渐增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵修建		220	2735	25.0	43.0
2	楼贤春		20	197	9.0	14.0
3	熊玉立		2	8	1.0	2.0
4	陈红萍		2	12	1.0	2.0