ZnO缓冲层厚度对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响

• 作者: 艾小倩 马书懿 马李刚 黄新丽
• 来源期刊: 西北师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射法 ZnO缓冲层 AZO薄膜 XRD 光致发光
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 20-24
• 分类号: O484.4|O484.5
• 字数: 3902字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-988X.2011.06.005

摘要

采用射频磁控溅射法在不同厚度的ZnO缓冲层上制备了A1掺杂ZnO(AZO)薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-VIS)和荧光分光光度计(PL)等表征技术,研究了AZO薄膜的微观结构、表面形貌和发光特性.XRD分析结果表明,加入适当厚度的ZnO缓冲层后可有效地降低晶格失配争因热膨胀系数不同引起的晶格畸变.薄膜在可见光范围内的透射率随着缓冲层厚度的增加先增大后降低,平均透过率超过80％.通过时样品光致发光(PL)谱的研究发现ZnO缓冲层样品在室温下的光致发光峰有了明显增高.这说明利用低温缓冲层生长的AZO薄膜的结晶质量和光学性质都得到了明显改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马书懿	西北师范大学物理与电子工程学院	69	226	8.0	11.0
5	艾小倩	西北师范大学物理与电子工程学院	3	4	1.0	2.0
6	黄新丽	西北师范大学物理与电子工程学院	2	4	1.0	2.0
7	马李刚	西北师范大学物理与电子工程学院	3	5	1.0	2.0