阴离子对铝酸钠溶液深度脱硅的影响

• 作者: 庞常健 张征 李宏亮 王雅静 翟玉春
• 来源期刊: 过程工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 铝酸钠溶液 深度脱硅 SO42- CO32- Cl-
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 反应与分离
• 页码范围: 239-243
• 分类号: TF80L
• 字数: 3264字
• 语种: 中文

摘要

研究了不同阴离子(SO42-,CO32-,Cl-)对铝酸钠溶液深度脱硅的影响.通过对Na2SO4,Na2CO3和NaCl用量、反应温度、时间、Al2O3浓度、溶液苛性比ak、搅拌速度影响的考察,确定了最佳工艺条件.在95℃,Al2O3 150 g/L,ak=1.5及搅拌速度867 r/min条件下脱硅110 min后,铝酸钠溶液中硅量指数达2938,在杂质用量30 g/L时,含SO42-,CO32-,Cl-溶液的硅量指数分别可达3943,3545和3221.在阴离子浓度为0～70 g/L时,SO42-促进溶液深度脱硅,CO32-,Cl-均先促进后抑制脱硅,通过硅渣XRD衍射分析,得到了SO42-,CO32-,Cl-对脱硅影响的变化规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翟玉春	东北大学材料与冶金学院	596	6449	37.0	51.0
2	庞常健	沈阳化工大学应用化学学院	13	77	5.0	8.0
3	王雅静	沈阳化工大学应用化学学院	43	215	8.0	13.0
4	李宏亮	沈阳化工大学应用化学学院	4	7	2.0	2.0
5	张征	沈阳化工大学应用化学学院	5	7	2.0	2.0