混酸插层制备膨胀石墨研究

• 作者: 张胜涛 车向前 顾安妍 高焕方
• 来源期刊: 炭素
• 学科: 工学
• 关键词: 混酸氧化插层 制备 膨胀石墨 机理
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 实验研究
• 页码范围: 3-7
• 分类号: TQ165
• 字数: 2397字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8948.2011.01-001

摘要

对采用H2SO4-HNO3-KMnO4-H2O2混酸氧化插层体系制备膨胀石墨进行了研究,采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、红外光谱(IR)和热重-差热法(TG-DTA)分析产物,并提出了氧化插层过程和机理.分析表明:插入剂的插入破坏了原有鳞片石墨层的紧密结构,使碳层间距增大,高温膨胀后,膨胀石墨呈蠕虫状或手风琴状蓬松结构,一个石墨蠕虫由许多微胞连接在一起组成,微胞之间呈现较大的狭缝裂开.氧化插层破坏了鳞片石墨原有的晶体结构,但是未破坏石墨的C-C键,2θ=29.5°处的特征峰是由石墨插层物结晶区引起的.可膨胀石墨片层间存在SO42-、NO3-阴离子插层物.可膨胀石墨在500℃之前的热失重和267℃附近较小的放热峰,均是由石墨插层物的气化、分解所致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高焕方	重庆大学化学化工学院	41	184	8.0	12.0
3	张胜涛	重庆大学化学化工学院	188	2189	26.0	36.0
6	车向前	重庆理工大学化学化工学院	2	11	2.0	2.0
7	顾安妍	重庆大学化学化工学院	2	11	2.0	2.0