几种氟碳薄膜制备方法及其表面形貌特征分析

• 作者: 周细应 孙卿 陈晖 马树杰
• 来源期刊: 磨料磨具通讯
• 学科: 化学
• 关键词: 氟碳薄膜 制备方法 表面形貌
• 年，卷（期）: zgcycl_2011,（1）
• 页码范围: 20-22
• 页数: 3页
• 分类号: O613.71

摘要

本文介绍了等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）和磁控溅射法制备氟碳（FC）薄膜，概述了相应FC薄膜的表面形貌特征，主要介绍了电感耦合等离子体化学气相沉积法（ICP—CVD）、电子回旋共振等离子体化学气相沉积法（ECR—CVD）、介质阻挡放电等离子增强化学气相沉积法（DBD—PECVD），最后比较分析了各种制备方法的优缺点。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周细应	上海工程技术大学材料工程学院	114	777	15.0	25.0
2	陈晖	上海工程技术大学材料工程学院	10	192	6.0	10.0
3	孙卿	上海工程技术大学材料工程学院	3	4	1.0	2.0
4	马树杰	上海工程技术大学材料工程学院	2	0	0.0	0.0