14nm低原子序数材料多层膜的设计和制备

• 作者: 吴文娟 周洪军 张众 朱京涛 王风丽 陈玲燕 霍同林
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 极紫外与软X射线 多层膜 低原子序数材料 磁控溅射 光谱分辨率
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 1192-1198
• 分类号: O484.1|O434
• 字数: 2782字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20111906.1192

摘要

为了减小常规多层膜的带宽,提高其光谱分辨率,对采用低原子序数材料组成的适用于极紫外和软X射线波段的多层膜进行了研究.首先,在14 nm波长处选取3种低原子序数材料对Si/B4C,Si/C和Si/SiC组成多层膜,用随机搜索的方法优化设计了这3种多层膜以及在此波段常用的Mo/Si多层膜.然后,用直流磁控溅射的方法制备Si/B4C,Si/C,Si/SiC和Mo/Si多层膜,并用X射线衍射仪测量拟合多层膜的周期厚度.最后,用同步辐射测试多层膜的反射率.同步辐射测试结果显示,Mo/Si多层膜的带宽最大,为0.57 nm；Si/SiC多层膜的带宽最小,为0.18 nm,结果与理论基本一致.实验结果表明,低原子序数材料多层膜的带宽要比常规Mo/Si多层膜窄,使用低原子序数材料组成多层膜可以提高多层膜的光谱分辨率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈玲燕	同济大学精密光学工程技术研究所物理系	60	522	13.0	19.0
2	王风丽	同济大学精密光学工程技术研究所物理系	27	135	7.0	9.0
3	张众	同济大学精密光学工程技术研究所物理系	25	122	7.0	10.0
4	朱京涛	同济大学精密光学工程技术研究所物理系	16	94	4.0	9.0
5	吴文娟	上海应用技术学院理学院	5	2	1.0	1.0
6	霍同林	中国科技大学国家同步辐射实验室	7	17	3.0	3.0
7	周洪军	中国科技大学国家同步辐射实验室	6	19	2.0	4.0