磁控溅射技术及其发展

• 作者: 卢求元 朱剑豪 朱颖 李刘合 李芬
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜制备 磁控溅射 平衡磁控溅射 非平衡磁控溅射
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 49-54
• 分类号: TB43
• 字数: 5379字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2011.03.012

摘要

磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊功能的薄膜,在工业薄膜制备领域的应用非常广泛.本文着重介绍了磁控溅射技术原理、特点、磁控溅射技术的发展史及其发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李刘合	北京航空航天大学机械工程及自动化学院	39	653	12.0	25.0
2	朱剑豪	香港城市大学应用物理及材料系	24	387	9.0	19.0
3	朱颖	北京航空航天大学机械工程及自动化学院	44	525	11.0	22.0
4	李芬	北京航空航天大学机械工程及自动化学院	4	199	2.0	4.0
5	卢求元	香港城市大学应用物理及材料系	2	196	1.0	2.0