基于磁控溅射离子镀技术的不同晶态纯Cr薄膜微观组织结构研究

• 作者: 曹政 李洪涛 杨波 蒋百灵
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 柱状晶 等轴晶 纳米晶 非晶
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 532-536
• 分类号: TB43
• 字数: 3754字
• 语种: 中文

摘要

基于磁控溅射离了镀技术,制备了不同晶态结构的纯Cr薄膜,分析了电场环境对纯Cr薄膜品态结构影响的客观规律;结合溅射原理和薄膜生长原理揭示了电场环境对纯Cr薄膜生长过程影响的内在机理;探讨了磁控溅射离子镀技术在工程材料的纳米化、非晶化进程中应有的功能,旨在为纳米材料的研发及其制备技术的创新提供参考依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	杨波	西安理工大学材料科学与工程学院	35	246	8.0	14.0
3	李洪涛	西安理工大学材料科学与工程学院	23	146	8.0	10.0
4	曹政	西安理工大学材料科学与工程学院	12	52	5.0	6.0