低压等离子喷涂钨薄膜及纳米粉末

• 作者: J.S O'Dell T.N.McKechnie 杨永琪
• 来源期刊: 热喷涂技术
• 关键词: 低压等离子 钨薄膜:沉积:纳米粉末
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 译文
• 页码范围: 65-68
• 分类号: TG174.442
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-7127.2011.01.012

摘要

本文采用了一种新的等离子化学工艺来制备钨薄膜.这种工艺采用超细粉或前驱体作为原料,利用低压下等离子使原料气化,蒸发沉积成纳米尺寸颗粒,形成等轴晶和柱状晶结构,这与传统的等离子喷涂差异很大,传统的等离子喷涂得到的颗粒为典型的扁平化结构.颗粒尺寸分析表明这种技术制备的钨粉末粒度为30～150 nm,制备的沉积层中的钨颗粒尺寸较大,这主要是因为晶粒长大引起的.