热氧化法制备二氧化钒薄膜及其相变温度研究

• 作者: 叶勤 张俊双 曾富强 李仕萍 王权康
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化钒薄膜 热氧化 磁控溅射 相变温度
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 22-24
• 分类号: O484|TB43|TB34
• 字数: 1440字
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射在普通玻璃衬底上沉积金属V膜,然后在空气中热氧化制备VO2薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)和X射线衍射光电子能谱仪(XPS)分析氧化温度对薄膜的微观结构、光学透过率、相变温度及其组分的影响.结果表明:金属V膜在空气中400℃热氧化1 h得到相变温度约为50℃和热滞宽度约10%的二氧化钒薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶勤	暨南大学物理系	37	351	11.0	16.0
2	李仕萍	暨南大学光电工程系	10	62	6.0	7.0
3	张俊双	暨南大学物理系	2	17	2.0	2.0
4	曾富强	暨南大学物理系	2	17	2.0	2.0
5	王权康	暨南大学物理系	3	17	2.0	3.0