低稀释比玻璃熔片X射线荧光光谱法分析高纯硅石中主次成分

• 作者: 宋霞 杨双花 翟智卫
• 来源期刊: 耐火材料
• 学科: 工学
• 关键词: 低稀释比 玻璃熔片法 X射线荧光光谱法 高纯硅石 系列标准样品
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 标准·检测
• 页码范围: 318-320
• 分类号: TQ175.4
• 字数: 2484字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1935.2011.04.025

摘要

用市售硅石、硅砖国家标准物质和SiO2基准试剂配制出一系列适当含量范围的标准样品,采用低稀释比玻璃熔片法,研究了高纯硅石中主次成分的X射线荧光光谱分析方法,并且对熔剂种类、稀释比、熔样条件进行了系统研究.国家硅石标准物质的测定值与标准值相一致,应用于实际样品的测定并和化学法比较,分析结果也基本一致.该方法操作简单、快速,结果准确,精密度好,具有良好的实用性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翟智卫	洛阳理工学院环境工程与化学系	11	33	4.0	5.0
2	杨双花	洛阳理工学院环境工程与化学系	16	49	4.0	6.0
3	宋霞	洛阳理工学院环境工程与化学系	5	8	2.0	2.0