HSi-g-A151的制备及其对纳米Si3N4的表面改性

• 作者: 桂君 章于川 钱家盛 魏强
• 来源期刊: 安徽大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 纳米氮化硅 大分子表面偶联剂 表面改性
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 79-84
• 分类号: O647.2
• 字数: 3212字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2162.2011.01.016

摘要

通过甲基含氢硅油与乙烯基硅氧烷(A151)的接枝反应,制备大分子硅氧烷偶联剂(HSi-g-A151),并用其对纳米Si3N4粉体进行表面修饰,通过沉降实验、透射电镜分析、粒度测定、热重分析和表面自由能分析等手段对改性前后的粉体进行表征.结果表明:大分子硅烷偶联剂对纳米Si3N4粉体为化学改性,改性后的纳米Si3N4粉体在二甲苯中悬浮稳定,粒径分布在30 nm左右,纳米颗粒表面自由能由79.8 J·m-2下降到39.4 J·m-2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	桂君		1	3	1.0	1.0
2	钱家盛		10	38	5.0	5.0
3	魏强		1	3	1.0	1.0
4	章于川		16	64	5.0	7.0