溅射时间对脉冲激光沉积制备β-FeSi2薄膜的影响

• 作者: 侯娟 刘爱华 刘玫 许士才 郭进进 马玉英
• 来源期刊: 山东科学
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积(PLD) β-FeSi2薄膜 溅射时间
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 55-60
• 分类号: O484.4
• 字数: 3528字
• 语种: 中文

摘要

本文基于脉冲激光沉积(PLD)方法及热退火处理方式,利用输出波长为1064 nm的Nd:YAG脉冲激光器在P型Si(100)衬底上生长了均匀的单相β-FeSi2薄膜.采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)分析技术,研究了β-FeSi2薄膜的结构、组分、结晶质量和表面形貌.结果发现,在其他相同沉积条件下,随着溅射时间的增加,薄膜晶化程度、颗粒大小和形状、表面粗糙度都发生规律性变化,通过分析比较得出,在本实验条件下溅射时间为40 min制备的β-FeSi2薄膜结晶质量较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘爱华	山东师范大学物理与电子科学学院	19	151	7.0	11.0
2	马玉英	山东师范大学物理与电子科学学院	4	17	3.0	4.0
3	许士才	山东师范大学物理与电子科学学院	4	13	2.0	3.0
4	郭进进	山东师范大学物理与电子科学学院	4	22	3.0	4.0
5	侯娟	山东师范大学物理与电子科学学院	4	22	3.0	4.0
6	刘玫	山东师范大学物理与电子科学学院	8	38	4.0	6.0