高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积CrN薄膜研究

• 作者: 吴忠振 巩春志 杨士勤 王泽明 田修波
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 高功率脉冲磁控放电 等离子体离子注入与沉积 氮化铬 微观结构 表面性能
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 459-464
• 分类号: TG174.444
• 字数: 3654字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.04.15

摘要

采用高功率脉冲磁控放电等离子体离子注入与沉积的方法在不锈钢基体上制备了高膜基结合力的CrN硬质薄膜,并研究了不同的Ar/N流量比对薄膜形貌、结构及性能的影响.采用扫描电子显微镜、X射线衍射对其表面形貌和结构进行分析,发现制备的薄膜表面光滑、致密,相结构单一,主要是CrN(200)相.对薄膜的结合力、硬度、弹性模量、耐磨性和耐腐蚀性的测试分析表明:薄膜与基体之间有很好的结合力,临界载荷最高可达68N,同时硬度、弹性模量、耐磨性及耐腐蚀性都有很大提高,其中硬度最高达到23.6 GPa,是基体硬度的4.7倍,摩擦系数为0.5左右,且磨痕较窄、较浅,腐蚀电位最高提高0.32 V,腐蚀电流下降1～2个数量级.