新型薄膜钪系阴极性能研究

• 作者: 李季 王舒墨 王辉
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜钪系阴极 直流溅射
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 29-33
• 分类号: O484
• 字数: 3265字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2011.06.007

摘要

利用三极直流溅射方法,采用Sc6WO12+W靶材研制新型薄膜钪系阴极,研究了这种阴极的发射特性和功函数分布情况,并对发射表面特性进行检测分析.这种阴极在1000℃时能提供86A/cm2的发射电流密度,表现出良好的发射性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李季		23	100	5.0	8.0
2	王辉		11	42	3.0	5.0
3	王舒墨		2	5	2.0	2.0