氢等离子作用下 Fe、Co对金刚石膜刻蚀的研究

• 作者: 吕继磊 吴宇琼 朱金凤 满卫东 董维 陈朋
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 溶碳材料 刻蚀 MPCVD
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 17-22
• 分类号: O484
• 字数: 4180字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2011.01.004

摘要

金刚石具有很高的硬度,加工困难,为寻找一种刻蚀效率较高的材料,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,在氢等离子体作用下,研究了Fe、Co对CVD金刚石膜表面的刻蚀效率.用SEM观察刻蚀效果,用Baman光谱对其表面结构进行表征.结果表明:在氢等离子体的作用下,Fe、Co对金刚石表面都有明显的腐蚀作用,其中Fe的刻蚀速率较高,并且可以通过对溶碳材料的厚度控制,来实现对刻蚀速率与刻蚀量的有效控制.对刻蚀后的样品用混合酸及丙酮处理后,得到了可与原始金刚石相媲美的质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	满卫东	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	45	370	11.0	16.0
2	吴宇琼	江汉大学化学与环境学院	19	76	5.0	8.0
3	陈朋	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	3	44	3.0	3.0
4	董维	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	3	35	3.0	3.0
5	吕继磊	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	8	81	5.0	8.0
6	朱金凤	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	6	63	5.0	6.0