光学窗口表面憎水改性工艺研究

• 作者: 叶春明 官庆 石磊
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 憎水改性 氟烃基硅烷 光学窗口 海洋环境 表面能
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 光学薄膜
• 页码范围: 59-63
• 分类号: O484
• 字数: 3629字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-3392.2011.03.014

摘要

海洋环境下使用的光学窗口常因海水等附着而影响其光学性能.从固体-液体界面理论入手,分析了光学窗口的表面能对海水附着特性的影响,开发了一种外场环境下可以实施的光学窗口表面憎水改性工艺.该工艺采用一种含有氟烃基硅烷的活性物质掺杂于SiO2溶胶中,通过涂擦和低温固化方式,在光学窗口表面形成纳米憎水膜,该憎水膜可使SiO2表面能由30 mJ/m2降至5 mJ/m2以下,水接触角由47°增加至105°以上.试验研究了改性后光学窗口的盐水接触角、光学透过率及耐候性,结果表明,用于改性的憎水膜海洋环境使用寿命大于6个月.通过定期对光学表面实施憎水改性保养可以显著减少海水附着.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石磊		2	1	1.0	1.0
2	叶春明		6	26	3.0	5.0
3	官庆		6	8	2.0	2.0