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摘要:
在纳米工艺下,漏电功耗已经成为制约集成电路发展的瓶颈之一.gated_gnd是一种常用的存储器低功耗设计方法,能够有效地减小sRAM的漏电.本文在此方法基础上实现了低功耗存储器设计,同时也提出了该方法改良电路,使得gated_gnd方法在各种工艺偏斜下具有更好的健壮性.从仿真结果看,该方法可以节省50%以上的漏电功耗.
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文献信息
篇名 纳米工艺下基于gatea_gnd的存储器低功耗技术研究与实现
来源期刊 高性能计算技术 学科 工学
关键词 低功耗gated_gnd存储器
年,卷(期) 2011,(1) 所属期刊栏目 高性能计算应用分析
研究方向 页码范围 72-75
页数 4页 分类号 TP333
字数 语种 中文
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2011(0)
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研究主题发展历程
节点文献
低功耗gated_gnd存储器
研究起点
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
高性能计算技术
双月刊
32-1679/TP
江苏省无锡33信箱353号
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