ICP-MS法测定高纯碳化硅粉表面的痕量杂质

• 作者: 刘占勇 王奕 王鑫 褚连青
• 来源期刊: 现代仪器与医疗
• 关键词: ICP-MS 高纯碳化硅粉 表面杂质
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 分析测试
• 页码范围: 61-62,65
• 分类号: Q67
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7916.2011.06.021

摘要

本文采用ICP-MS法对高纯碳化硅粉表面的Na、Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Cd 12种痕量杂质进行测定,用氢氟酸溶液浸提试样表面杂质,用钇做内标补偿基体效应和仪器的漂移,用碰撞反应技术消除多原子离子干扰,通过实验确定最佳优化测定条伟.方法检出限为0.005～0.036μg/L；加标回收率为80.0％～ 120.3％之间;RSD为1.78％～8.95％.方法操作简便、快速、准确.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王鑫	中国电子科技集团公司第四十六研究所	23	33	4.0	4.0
2	褚连青	中国电子科技集团公司第四十六研究所	7	12	3.0	3.0
3	刘占勇	中国电子科技集团公司第四十六研究所	1	1	1.0	1.0
4	王奕	中国电子科技集团公司第四十六研究所	7	9	2.0	2.0