椭球谐振腔式MPCVD装置高功率下大面积金刚石膜的沉积

• 作者: 于盛旺 刘艳青 唐伟忠 李义锋 范朋伟
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 椭球谐振腔式MPCVD装置 金刚石膜 高功率 气体流量 生长速率
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 页码范围: 1145-1149
• 分类号: O484
• 字数: 2753字
• 语种: 中文

摘要

使用自行研制的椭球谐振腔式MPCVD装置,以H2-CH4为气源,在输入功率为9 kW,沉积压力为1.7 ×104 Pa和不同的气体流量条件下制备了金刚石膜.利用扫描电镜、激光拉曼谱对金刚石膜的表面和断口形貌、金刚石膜的品质等进行了表征.实验结果表明,利用椭球谐振腔式MPCVD装置能够在较高的功率下进行大面积金刚石膜的沉积；在高功率条件下,较高质量的金刚石膜的沉积速率可以达到4 ～5 μm·h-1的水平,而气体的流量则会显著影响金刚石膜的品质及其沉积速率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
2	于盛旺	北京科技大学材料科学与工程学院	10	79	5.0	8.0
3	刘艳青	北京科技大学材料科学与工程学院	7	61	4.0	7.0
4	范朋伟	北京科技大学材料科学与工程学院	3	39	3.0	3.0
5	李义锋	北京科技大学材料科学与工程学院	6	39	2.0	6.0