TiO2缓冲层对掺钨氧化钒热敏智能玻璃的制备及性能影响

• 作者: 刘丹 刘涛 吕晓庆 宋泽润 李合琴 武大伟
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 掺钨VOx薄膜 TiO2缓冲层 直流/射频反应磁控共溅射 光透过率
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 21-24
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

用直流磁控溅射法在玻璃基片上先沉积TiO2缓冲层,再用直流/射频反应磁控共溅射法制备掺钨VOx薄膜,然后在氮气中退火.用X射线衍射、原子力显微镜、紫外可见光分光光度计、红外光谱仪等对薄膜的结构、表面形貌、光透过率等进行测试分析.结果表明:在溅射气压为1Pa,氧氩气体比例为1:4,Ti靶采用100 W直流电源时,所制备的TiO2缓冲层上的掺钨VOx薄膜致密,晶粒大小均匀.掺钨VOx薄膜样品的相变温度降低至35℃,可见光透过率较高,对红外光的屏蔽效果明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘涛	合肥工业大学材料科学与工程学院	37	279	10.0	15.0
2	李合琴	合肥工业大学材料科学与工程学院	71	273	8.0	12.0
3	刘丹	合肥工业大学材料科学与工程学院	7	53	3.0	7.0
4	武大伟	合肥工业大学材料科学与工程学院	4	8	2.0	2.0
5	吕晓庆	合肥工业大学材料科学与工程学院	2	6	2.0	2.0
6	宋泽润		11	18	3.0	4.0