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双面PSD器件的工艺制作
双面PSD器件的工艺制作
作者:
徐姗姗
汪继芳
陈计学
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
双面PSD
双面光刻
氧化扩散
摘要:
介绍了双面PSD器件的结构原理及其制作技术。重点介绍了双面对准技术,解决了双面PSD器件的工艺难题,研制出了灵敏度高、线性度好的双面PSD器件,为双面PSD器件的制作提供一条工艺技术途径。
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篇名
双面PSD器件的工艺制作
来源期刊
集成电路通讯
学科
工学
关键词
双面PSD
双面光刻
氧化扩散
年,卷(期)
2011,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
41-43
页数
3页
分类号
TP368.1
字数
语种
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
汪继芳
10
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2
徐姗姗
4
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陈计学
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2011(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
双面PSD
双面光刻
氧化扩散
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路通讯
主办单位:
中国兵器工业第214研究所
出版周期:
季刊
ISSN:
CN:
开本:
大16开
出版地:
安徽省蚌埠市06信箱
邮发代号:
创刊时间:
1983
语种:
chi
出版文献量(篇)
868
总下载数(次)
16
总被引数(次)
1121
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