调制比对TiB2/TiAlN纳米多层膜结构和机械性能的影响

• 作者: 刘思鹏 李德军 邓湘云
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 TiB2/TiAlN纳米多层膜 调制比 硬度
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 42-45
• 分类号: O484.4
• 字数: 2801字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2011.02.011

摘要

利用射频磁控溅射技术在室温下合成了具有纳米调制周期的TiB2/TiAlN多层膜.分别采用X射线衍射仪(XRD)、表面轮廓仪、纳米力学测试系统和多功能材料表面性能实验仪分析了调制比对TiB2/TiAlN纳米多层膜结构和机械性能的影响.结果表明:大部分多层膜的纳米硬度和弹性模量值均高于两种个体材料混合相的值,在调制比为t TiB2∶tTiAlN=5∶2时,多层膜体系的硬度超过36 GPa,其他机械性能也达到较佳效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0
2	邓湘云	天津师范大学物理与电子信息学院	29	75	5.0	6.0
3	刘思鹏	天津师范大学物理与电子信息学院	9	29	4.0	5.0