衬底温度对电子束沉积LaF3薄膜表面形貌的影响

• 作者: 宋连科 郝殿中 韩培高
• 来源期刊: 曲阜师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜 衬底温度 均方根粗糙度 电子束沉积 LaF3
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 页码范围: 55-56,61
• 分类号: O484.1
• 字数: 961字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5337.2011.03.012

摘要

采用电子束沉积的方法,分别在K9玻璃基片上制备了LaF3单层膜.研究了衬底温度对LaF3薄膜表面形貌的影响；衬底温度从200℃上升到350℃,间隔为50℃.利用原子力显微镜测量了基板镀膜后的粗糙度变化；分析结果表明:在本实验条件下,随衬底温度的升高,均方根粗糙度先增大后减小,达到一定温度后,粗糙度迅速增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郝殿中	曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室	31	47	4.0	6.0
2	宋连科	曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室	39	89	5.0	8.0
3	韩培高	曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室	15	1	1.0	1.0