氯霉素分子印迹聚合物中模板分子的洗脱方法

• 作者: 刘全德 刘辉 唐仕荣 沈跃丽 邢洪伟 顾永金
• 来源期刊: 徐州工程学院学报：自然科学版
• 学科: 工学
• 关键词: 分子印迹 模板洗脱 超声波辅助抽提 氯霉素
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 68-71
• 分类号: TS207
• 字数: 3091字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-358X.2011.03.015

摘要

以氯霉素为模板分子,采用本体聚合法制备氯霉素分子印迹聚合物,通过索氏抽提和超声波辅助抽提对比,对印迹聚合物中模板分子的洗脱方法和洗脱后聚合物的吸附性能进行了试验,结果表明,超声波辅助抽提150min,模板分子洗脱率可达91%左右,与索氏抽提100h的洗脱效果相近,洗脱后聚合物对模板分子具有良好的吸附性能.体现了超声波的高效、快速等优点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐仕荣		68	478	14.0	17.0
2	刘辉		41	134	6.0	10.0
3	刘全德		40	166	6.0	11.0
4	沈跃丽		1	3	1.0	1.0
5	顾永金		1	3	1.0	1.0
6	邢洪伟		2	25	2.0	2.0