非晶碳化硅薄膜的结构及其光学特性研究

• 作者: 孔令德 宋超
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 碳化硅 非晶薄膜 光学带隙
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 509-511
• 分类号: O484.1
• 字数: 2272字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.09.004

摘要

采用等离子体增强化学气相沉积系统制备非晶碳化硅薄膜,通过控制反应气体中甲烷和硅烷的流量比R来调节薄膜中的碳/硅比,获得具有不同碳/硅比的薄膜结构.采用Raman、XPS以及FT-IR等技术手段对样品的结构进行表征.通过对样品吸收谱的测量,对样品的光学特性进行了研究.研究结果表明,薄膜中C-H键以及Si-C键含量的增加引起薄膜的光学带隙展宽,在R=10时薄膜的光学带隙达到2.4 eV.